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OE750以優(yōu)惠合理價格提供高性能的5種方式
發(fā)布時間：2019-12-30
日立分析儀器新型OE750 OES光譜儀在同類產(chǎn)品中具有開創(chuàng)性。其具備昂貴儀器所擁有的高性能，例如，其可分析金屬中所有含量非常低ppm的元素。
但其如何實現(xiàn)以優(yōu)惠親民的購買價格提供高性能?日立如何降低光譜儀的運行成本?一切答案都歸因于科技：
創(chuàng)新的光學系統(tǒng)設計提高性能，并縮短啟動時間
光學系統(tǒng)是OE750操作的核心，當前正針對這一新光學概念申請四項專利，其可為光譜儀提供同類產(chǎn)品中的最*佳光學分辨率。此技術可確保檢測所需的一切事物，即使在超低限值的情況下亦可進行檢測。OE750內(nèi)的光學系統(tǒng)配置經(jīng)過徹底的重新設計。外殼體積相對較小，從而縮短啟動時間，確保儀器可更快地被使用。日立已納入更多檢測器，并將其放在單焦平面上;這一設計能提供優(yōu)質(zhì)的分辨率，并能清晰顯示結果。最*后，檢測器本身已經(jīng)過升級，將在下文進行相關介紹。
先進的檢測器技術成本更低，但性能更好
降低光譜儀成本，但仍可提高性能的關鍵之處在于檢測器本身。日立已使用新型CMOS芯片代替舊款CCD檢測器。CMOS芯片具有更高的分辨率和改進的像素尺寸，以及更高的動態(tài)范圍。僅使用一個鍍膜傳感器便可完成通常情況下需要幾個CCD傳感器才能完成的工作。由此，光譜儀成本有所降低，但與較昂貴的儀器具有同等的高性能。在低檢出限的穩(wěn)定性方面，CMOS檢測器也優(yōu)于舊款CCD檢測器，這正是分析ppm含量范圍內(nèi)的金屬時所需實現(xiàn)的目標。
低壓力氬氣凈化降低運行成本，減少維護
標準OES儀器的一個問題是，對于低于200nm的波長，其光強會隨時間推移而減弱，從而導致一些分析分辨率不足。日立已通過開發(fā)中壓力氬氣凈化環(huán)境(一種真空技術和低壓力氬氣凈化的獨特組合)完全克服此問題，即使在150nm以下的波長情況下也可提高穩(wěn)定性和強度。該系統(tǒng)能減少所需氬氣量，并允許使用僅在某些時候才可被使用的無油泵。泵的功耗降低，而維護和校準間隔大幅增加，從而增加儀器的可用性，并降低運行成本。
改進火花光源，以提高效率和穩(wěn)定性
日立也重新設計了火花光源。舊款光譜儀的此部件耗用大量功率以產(chǎn)生火花，且電源的任何波動均會改變火花特性，從而可能影響結果可靠性。日立進行創(chuàng)新，設計了開創(chuàng)性的OE750。通過提高火花源的效率，實現(xiàn)耗用較少功率和產(chǎn)生較少熱量的目標。此款光譜儀中還新添了能提高火花可靠性和再現(xiàn)性的功能，例如，24V直流電源將火花與本地電源電壓隔離，以使本地電源的波動不會影響光譜儀的性能。
新密封火花臺改進檢出限，并減少維護
在新設計中，火花臺和光學系統(tǒng)實質(zhì)上是一個密封單元。這是在最寬波長范圍內(nèi)獲得一致低檢出限和最*佳性能的最*佳方法。這是金屬中氣體分析的強制性要求，例如，鋼鐵中的氮元素的檢出限為10ppm。密封單元設計確保空氣和微粒無法進入火花臺和光學系統(tǒng)區(qū)域，從而最*大限度減少分析干擾。同時入射狹縫和透鏡之間的距離非常短，從而大幅改善光耦合。外殼專為透鏡周圍氬氣的最*優(yōu)層流而設，再次減少所需氬氣量。此外，密封單元能減少維護需求，確保獲得更長的正常運行時間和更好的結果。
無需降低性能標準
此性能可確保符合嚴格規(guī)范，檢測廢料中的雜質(zhì)和痕量元素，并以當今金屬行業(yè)要求的超低限值驗證來料。
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